解讀小型真空等離子清洗機的性能優(yōu)勢

　　小型真空等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
 
　　等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。小型等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。





 

　　小型真空等離子清洗機的性能優(yōu)勢：
 
　　1、環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣-固相干式反應，不消耗水資源、無需添加化學藥劑，對環(huán)境無污染；
 
　　2、廣適性：不分處理對象的基材類型，均可進行處理，如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
 
　　3、溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力；
 
　　4、功能強：僅涉及高分子材料淺表面(10-1000A)，可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；
 
　　5、低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液，因此清洗成本會大大低于濕法清洗；
 
　　6、全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設置和數(shù)據(jù)記錄，進行工藝質(zhì)量控制；
 
　　7、處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。